Titano dangų vienalaikės oksidacijos ir hidrinimo vandens garų plazmoje tyrimas (Fizika 02 P)
Anotacija
Vandenilio gavyba ir jo išsaugojimas yra pagrindinės problemos stabdančios platesnį vandenilio technologijų plėtojimą. Disertacijoje aptariama nauja, ekologiškai švari, žematemperatūrė technologija vandeniliui gauti – vienalaikė titano dangų oksidacija ir hidrinimas. Tai originalus metodas vandeniliui išskirti iš vandens garų plazmos. Magnetroninio nusodinimo būdu argono plazmoje suformuotos dviejų tipų Ti dangos: „plonos“ (~300 nm) ir „storos“ (~600 nm). Šios dangos modifikuojamos talpinant jas į žemo (10, 200 ir 300 Pa) slėgio ir 20 – 300 W radijo dažnio (RF) galios plazmą, kurioje realizuojama molekulinė joninė implantacija teigiamais jonais, ištrauktais iš plazmos neigiamu priešįtampiu. Energingi molekuliniai jonai skyla TiO2 paviršiniame sluoksnyje į O ir H atomus. Deguonies atomai transformuoja Ti/TiOx į TiO2, o atskilę H atomai sugaudomi radiacinių defektų gaudyklėmis ir užsisaugo Ti medžiagoje. Taip susiformuoja nanokompozicinė dvisluoksnė TiO2 danga su paviršiniu sluoksniu, kurio storis lygus 30 – 80 nm, prisotintu vandenilio atomais. Tai ekologiškai švari vandeniliui iš vandens gauti technologija, o tokiu būdu sukurtos naujos dangos gali būti naudojamos efektyviam fotokatalitiniam vandens molekulių skaldymui dienos šviesoje ir vandenilio gavybai.
